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除硅设备
除硅设备
2022-08-31T15:08:11+00:00
煤化工废水预处理— 除硬除硅新技术：结晶循环造粒流化床
2021年9月10日 若 需要同步除硅，并对除硅要求数值较低时，则加入除硅药剂，利用硅镁络合物 以及生成的 Mg(OH) 2 对硅的吸附作用，达到有效去除硅的目的。 结晶循环造粒流 2021年8月26日 除硅的工艺介绍： 混凝脱硅 混凝脱硅是利用某些金属的氧化物或氢氧化物对硅的吸附或凝聚来达到脱硅目的的一种物理化学方法。 这是一种非深度脱硅方法，一 干货废水除硅工艺介绍！北极星水处理网2019年6月9日 去离子水设备前处理之镁剂除硅原理 去离子水设备去离子水机去离子水生产厂家仟净环保公司网站 仟净15年专注研发生产去离子水设备,实验室去离子水机,定制 去离子水设备前处理之镁剂除硅原理 去离子水设备去离子水 2022年11月29日 软化除硅装置技术导则》初稿，经多次反复论证修改形成了《工业高盐水管式膜软化除硅装 置技术导则（征求意见稿）》预审稿。2022年10月21日，由中华环保 《工业高盐水管式膜软化除硅装置技术导则》 （征求意见稿 油的去除率可达90犯上 总磷的去除率可达90%^上 SiO2去除率可达60犯上 Fe、Mn等重金属离子,去除率可达90%^上 应用范围 作为膜脱盐设备的预处理工艺 污水回用除硬度除 电化学除硬度除硅技术百度文库
污水回用除硬度电化学除硬度除硅污水处理设备水处理烟台
污水回用除硬度电化学除硬度除硅简介节水减排、污水资源化是我国当前的紧要任务。目前工业企业为了进一步实现企业内节水减排的目标，分别将污水处理厂处理出水和循环冷却 2021年3月25日 中国专利文献CN55公开了一种高盐废水除硬除硅及浓缩处理系统，该系统采用氧化镁或氯化镁加药设备中的至少一种进行除硅，采用石灰及纯碱加 除硅除硬的污水处理系统 Dowater2021年8月26日 除硅的工艺介绍： 混凝脱硅 混凝脱硅是利用某些金属的氧化物或氢氧化物对硅的吸附或凝聚来达到脱硅目的的一种物理化学方法。 这是一种非深度脱硅方法，一 干货废水除硅工艺介绍！北极星环保网 2022年8月9日 宏森环保采用的是一种无需加入任何的化学药剂，且除硅处理率可高达99%以上适用于大规模的晶硅行业的废水处理： 将收集到的 晶硅废水 用提升泵将含硅 多晶硅工业废水处理方法 知乎2022年11月29日 软化除硅装置技术导则》初稿，经多次反复论证修改形成了《工业高盐水管式膜软化除硅装 置技术导则（征求意见稿）》预审稿。2022年10月21日，由中华环保联合会在北京组织召开《工业高盐水管式膜软化除硅 装置技术导则（征求意见稿）》技术审查会。《工业高盐水管式膜软化除硅装置技术导则》 （征求意见稿
干货废水除硅工艺介绍！北极星环保网
2021年8月26日 ② 混凝剂的用量：采用镁剂脱硅时，通常都加混凝剂。适当的混凝剂可以改善氧化镁沉渣的性质，提高除硅效果。一般所用的混凝剂为铁盐，其添加量为02～035 mmol/L。③ 水温：提高水温可以加速除硅过程，并使除硅效果提高。40 ℃时出水中残留硅 2015年10月8日 将纯酸按液 固比为 加热至50 、在反应釜中搅拌反应 定条件，进行王水、HNO3、HCl 、HF、HF+HCl 的酸洗对 比实验。 反应结束后用去离子水将硅料清洗至中性， 抽滤并烘干，取样进行金属杂质含量检测，结果如表 所示。 可以看到：HCl对于 Ca、Al 杂质的去除效果最 酸洗法去除工业硅中金属杂质 豆丁网2018年8月2日 公开 (公告)日20181106 IPC分类号C02F9/04; C02F101/10 摘要 本发明公开了一种高盐废水除硬除硅及浓缩处理方法及系统，涉及废水处理技术领域，该高盐废水处理方法包括：对高盐废水进行加药软化除硅处理;对所述加药软化除硅处理后的废水进行固液分 高盐废水除硬除硅及浓缩处理方法及系统 Dowater2022年12月1日 正如我们所提到的，五种处理技术可以去除水中的二氧化硅，但每一种都有其缺点。在下图中，我们介绍了一种处理系统，它几乎可以通过使用水软化剂、电絮凝和超滤设备从水中去除二氧化硅。图81：除硅工艺流程介绍 09 part 去除硅的最佳方法是什么？YASA ET 亚沙环境丨从废水中去除二氧化硅的五种方法2018年9月20日 1)本发明所提出的煤气化废水同步除硅除硬方法，操作简单、设备投资和运行成本低、除硅 除硬效果良好。反应通过除硅药剂吸附含硅微粒破坏其在水中的平衡，随后再加入混凝药剂将上述微粒与硬度一同除去。反应过程中通过将产生的污泥分别 煤气化废水同步除硅除硬工艺方法 Dowater
硅片外延生长市场初研半导体
硅片外延生长市场初研 17:00 2020年初，全球第六大、中国较大的半导体硅外延片一体化制造商上海合晶递交了A股科创板招股书，硅外延片首次在资本市场引起关注。 虽然硅外延技术在半导体制造领域是最常见、普遍的材料表面加工工艺之一，通过该 2014年11月5日 现在给大家介绍两种除氟治理方法：湿法吸收和干法净化法。 （一）湿法吸收 1、吸收原理 绝大多数工业含氟气体的主要组分为氟化氢和四氟化硅。根据这两种气体易溶于水和某些溶液中的特性，通常采用水、氢氟酸和氟硅酸溶液或碳酸钠、氢氧化铵、氟化铵、氢氧化钙、氯化钠、硫酸钾等溶液 除氟有哪些方法，哪种比较好？ 知乎2020年12月21日 RENA前清洗工序的目的： ①去除硅片表面的机械损伤层（来自硅棒切割的物理损伤） ②清除表面油污（利用HF）和金属杂质（利用HCl） ③形成起伏不平的绒面，增加对太阳光的吸收，增加PN结面积，提高短路电流（Isc），最终提高电池光电转换效率 RENA前后清洗工艺 知乎2019年11月22日 5一种采用权利要求14任意一项所述的高效除硬除硅的污水处理系统的污水处理方法，其特征在于：包括如下步骤： 将污水通入管道混合器 (2)，与通过药剂投加管线 (22)投加的药剂混合，出水进入第二管道混合器 (3)，与通过第二药剂投加管线 高效除硬除硅污水处理方法 Dowater2022年2月21日 因此，降低铁精矿中硅的含量 一直是铁矿石分选的重要课题。本论文对铁矿石脱硅 工艺与浮选药剂制度的研究进展做了系统的综述，重 点介绍了浮选脱硅的研究现状和发展趋势，为从事类 似研究的科技工作者提供一定的参考。1 铁矿石脱硅选矿工艺铁矿石脱硅技术和浮选药剂研究进展 cgs
去除废水中二氧化硅方法 Dowater
2017年12月29日 摘要 本发明公开了一种去除废水中二氧化硅的方法，其包括以下步骤：a、调节废水的pH值至106‑109;加入固体氯化镁，搅拌，静置，水中出现絮状沉淀，b、将步骤a得到的废水经陶瓷膜系统过滤，除硅后得到出水。 本发明的方法通过在废水中加入氯化 1 天前 自20世纪80年代以来，GORE臭氧化模组已成功应用于臭氧水晶圆清洗工具，用于清洗硅晶圆和半导体。 该臭氧化模组使用去离子臭氧水，比常用的刺激性化学品和需经过多个半导体清洗工艺步骤的方法更安全、更 应用于半导体清洗的臭氧化模组Gore2021年12月8日 从硅衬底上去除氧化物的常用方法是稀氢氟酸湿法清洗。这种湿式清洁提供了高度选择性的氧化物去除，并将被用作基线。图2显示了具有天然氧化物的硅衬底与在1 %稀氢氟酸溶液中处理60 s后的硅衬底的表面化学。Si2p和O1s 华林科纳SiO2原子层蚀刻法去除硅基质的薄氧化物层 哔 2021年11月18日 在硅料价格快速上涨的背景下，各硅料企业和新进入者相继公布了自己的产能扩展计划，由于扩张需求，很少有企业愿意把重心放在性能并不稳定的颗粒硅身上。 据统计，全球多晶硅名义产能将在 2021、2022年底分别达到 816万吨、1236 万吨。 考虑到 “拥硅为王”的局面与翻涌的多晶硅技术“江湖”腾讯新闻2023年9月25日 常用作绝缘或保护膜的二氧化硅（SiO2）也很容易被含氟气体去除。与纯硅不同，二氧化硅已经是硅元素与氧结合形成的稳定化合物（硅燃烧后的粉尘），所以需要使用发热的气体才能将其去除。氟与碳（C）结合的气体便是常用于去除二氧化硅的刻蚀气体。芯片制造的刻蚀工艺科普 知乎
什么是芯片湿法刻蚀？ 知乎
2023年7月28日 当前湿法刻蚀主要用于残留物去除、漂去氧化硅、大尺寸图形刻蚀等方面，具有设备 简单、材料选择比高，对器件损伤小等优点。湿法刻蚀又分多种的方式，下面是集中湿法刻蚀的方式，仅供参考。硅湿法刻蚀 1、酸性蚀刻液 2021年1月8日 为获得一种制备高纯硅的高纯原料，在分析太阳能级多晶硅切割废料（CLW）物性的基础上，详细研究了CLW的酸浸除杂，超声酸浸除杂，考察了盐酸浓度、酸浸时间、酸浸温度、酸浸液固比和搅拌对除杂效果的影响，并分析了超声酸洗过程动力学，得到的最适宜工艺条件为：w（盐酸）为19%，反应 太阳能级多晶硅切割废料的酸洗除杂研究 TJU2020年6月7日 某种特定的等离子体可以去除特定的表层。本文只介绍三种物质的湿法去除方法：二氧化硅、氮化硅 ，纯硅。二氧化硅的腐蚀 在半导体器件中最常见的绝缘材料是SiO2 和Si3N4。SiO2用于电路中各种需要绝缘隔离的地方，在电路外部主要 [失效分析与可靠性] 008 二氧化硅、氮化硅与纯硅如何去除 2022年5月17日 目前，硅片加工企业含硅废水处理方法主要是按含一般悬浮物的废水处理方法进行处理，即先加入絮凝剂 (如聚合氯化铝、聚合氯化铁、聚丙烯酰胺等)是含硅废水絮凝沉淀，然后进行压滤进行固液分离。 这种含硅废水处理方法存在效率低、成本高、处理效果差 含硅废水处理方法 知乎2023年3月26日 蒸发器前废水除硅项目，废水盐分高，澄清效果差，不适宜用传统澄清池超滤工艺。 管式膜工艺基于膜层过滤，不受澄清效果影响，产水水质稳定； 管式膜化学耐受性强，可以接受氢氟酸等强酸、强碱清 管式膜除硅—蒸发器安全卫士 知乎
盘点：10大类磁选除铁设备，5大注意事项！磁性
2019年1月21日 磁选是非金属矿除铁最广泛和最有效的方法，广泛应用于石英、高岭土、膨润土、硅灰石、长石、滑石等非金属矿提纯，而磁选设备的性能与工艺参数是影响除铁效果的重要因素。 因此，今天粉体技术网就与大家分享一下常用的磁选设备有哪些？除硅方法主要是降低给水中硅、铝和其它氧化物含量，提高炉水pH值，减小硅酸的溶解携带。 化学除盐方法中最常用的是 阳离子交换树脂 和 阴离子交换树脂 ，在 离子交换器 中，含盐水流经过树脂时，盐中的阴阳离子分 工业锅炉水处理技术（基本释义）百度百科2019年9月30日 摘要 本发明涉及一种含硅废水的净化方法，包括以下步骤：将含硅废水的pH值调至75～95并进行均质均量处理，然后加入偏铝酸钠进行除硅反应15min～30min，并控制所述除硅反应的过程中pH值保持在75～95，再将经所述除硅反应后的含硅废水进行混凝、絮凝、澄清 含硅废水净化方法2021年5月8日 因此，油田采出水进行除硅处理是很有必要的。 （7）其他行业 在造纸工业中，用水中硅含量过高，对生产设备 的危害表现为各种管道的堵塞，影响泵的正常运行；对最终产品的影响表现为纸浆的色泽发黄，耐折度下降，纸质变脆等。对于湿法 水中硅对工业的危害与电絮凝除硅技术成都万洗源水处理 2022年7月7日 过氧化氢溶液的作用解读 在半导体材料制备中硅晶片清洗引言 过氧化氢被认为是半导体工业的关键化学品。半导体材料的制备和印刷电路板的制造使用过氧化氢水溶液来清洗硅晶片、去除光刻胶或蚀刻印刷电路板上的铜。用于硅晶片表面清洗的最常用的清洗浴(S(1，S(2或SPM)在其配方中包括过氧化氢 过氧化氢溶液的作用解读 在半导体材料制备中硅晶片清洗
氢氟酸在新型清洗工艺中的作用硅片
2020年12月29日 其清洗的硅片，表面平整度高,明显优于标准RCA清洗技术 [8]，而且新型清洗剂具有无毒﹑无腐蚀性﹑对人体无危害﹑对环境无污染，工艺简单﹑操作方便等优点。 HF在清洗中的作用是什么，下面我们以实验来加以说明。 2实验结果和讨论 21HF稀溶液在DGQ系列清洗 2021年1月12日 进一步地，所述镍钴溶液净化除硅的方法，包括如下步骤∶ s1除硅：向酸溶后镍钴溶液中加入除硅试剂氢氧化锆，反应结束后固液分离，得到硅渣和除硅后液；硅渣进入洗涤工序；硅渣浆化洗涤后得到水洗液和水洗硅渣；水洗液 一种镍钴溶液净化除硅的方法与流程 X技术网石灰不仅有调节 pH 的功能，而且还可以除去部分二氧化硅、暂时硬度和二氧化 碳等。 ② 混凝剂的用量：采用镁剂脱硅时，通常都加混凝剂。 适当的混凝剂可以改善氧化镁 沉渣的性质，提高除硅效果。 一般所用的混凝剂为铁盐，其添加量为 02～035mmol/L 二氧化硅的去除百度文库2016年1月5日 混凝剂的用量：采用镁剂脱硅时，通常都加混凝剂。适当的混凝剂可以改善氧化镁沉渣的性质，提高除硅效果。一般所用的混凝剂为铁盐，其添加量为02～035ol/L。 水温：提高水温可以加速除硅过程，并使除硅效果提高。40时出水中残留硅可达1g/L工业用水中硅化合物的去除方法 豆丁网2022年1月22日 石英砂提纯工艺流程详解： 1、粗选：将各类石英原矿中的明显的杂质和异物去除; 2、破碎：采用专业破碎机将石英原矿破碎至粒径为120mm的颗粒;脉石英或石英岩等粒度较大的矿石开采出来过后首先从原 石英砂提纯工艺流程 知乎
N型硅片的吸杂方法和磷吸杂设备与流程 X技术网
2021年8月13日 本发明涉及太阳能电池制备技术领域，尤其涉及一种n型硅片的吸杂方法和设备，更具体地涉及一种应用于异质结电池硅片的n型硅片的吸杂方法和磷吸杂设备。背景技术在硅片单晶拉制过程中，由于硅料中存在一定比例的金属杂质，这些金属杂质在硅片中很容易形成深能级缺陷，极大的影响硅片的少 2021年7月17日 除去硅料表面的石英、金属离子等，先使用碱液去除石英等，再使用酸混合液酸洗，在用去离子水冲洗液浸泡至中性，最后烘干分类存放。 设备、工模具：硅料清洗机、装硅料的花篮、温度计、PH 测量计、电阻率测量仪、量杯、电子秤、防护服等 生产多晶硅片级产业链的工艺流程 知乎我们提供有效的、不易燃的有机硅溶剂型和水性清洁剂，可帮助您从设备和表面上去除固化和未固化的有机硅。 如何选择有机硅？ DOWSIL™ DS2025有机硅清洁溶剂和 DOWSIL™ DS1000水性有机硅清洁剂不易燃，具有高闪点和低粘度的特点有机硅清洁和去除 陶氏公司 Dow2017年9月18日 反渗透较大的特点是不受原水水质变化的影响，反渗透具有很强的除有机物和除硅能力，COD的脱除率可达83%，满足了大机组对有机物和硅含量的严格要求。反渗透由于除去了水中的大部分离子 (一般为90%左右)，减轻了下一道工序中离子交换系统的 电厂水处理工艺介绍 知乎2022年9月17日 对高密池同步除硅除硬鲜有研究。本论文以某煤化工企业浓盐水为研究对象, 采用石灰氧化镁法进行同步除硬除硅,通过现 场数据采集与小试实验,重点讨论石灰氧化镁 法在除硬除硅实际工程应用中的效果和存在问 题,为日后煤化工领域同步除硬除硅工艺奠定 基础。煤化工废水高密度池同步除硅除硬技术研究与运行
刻蚀及去PSG工艺及异常处理 北极星太阳能光伏网
2020年5月18日 磷硅玻璃的存在使得PECVD后产生色差,在PECVD工序将使镀的SIxNy容易发生脱落，降低电池的转换效率。湿法刻蚀及去PSG原理 湿法刻蚀原理 利用HNO3和HF的混合液体对扩散后硅片下表面和边缘进行腐蚀,去除边缘的N型硅,使得硅片的上下表面相互绝缘。2021年8月6日 本发明采用的除硅方法操作简单、设备成本低、无需加热，能实现微量硅的深度去除，净化后的镍溶液中硅含量可降至10mg/l 以下，且除硅过程不会引入危害三元前驱体的杂质元素，实现了资源的循环利用，易于实现工业化。附图说明 图1为本发明 一种高浓度硫酸镍溶液中微量硅的去除方法 X技术网2022年12月5日 941 颗粒化学去除 化学协助去除颗粒在很多湿法清洗中得到应用。如标准清洗液1（SC1：氨水+双氧水），溶液中双氧水可直接氧化溶解较有机物膜或颗粒，而对于硅表面清洗，SC1使硅表面生成薄层氧化硅，又可少量溶解氧化硅，如此反复，颗粒由大 纳米集成电路制造工艺第九章（ 集成电路制造中的污染和清洗 2021年8月13日 步骤S3：去除所述磷硅吸杂层12。所述磷硅吸杂层12包括磷硅玻璃层121和磷硅扩散层122，在该步骤中，在对形成有所述磷浆层的所述硅片进行链式扩散退火的步骤之后，所述方法还包括去除磷硅吸杂层12的步骤，同时对硅片进行清洗。N型硅片的吸杂方法和磷吸杂设备 掌桥科研2022年11月29日 软化除硅装置技术导则》初稿，经多次反复论证修改形成了《工业高盐水管式膜软化除硅装 置技术导则（征求意见稿）》预审稿。2022年10月21日，由中华环保联合会在北京组织召开《工业高盐水管式膜软化除硅 装置技术导则（征求意见稿）》技术审查会。《工业高盐水管式膜软化除硅装置技术导则》 （征求意见稿
干货废水除硅工艺介绍！北极星环保网
2021年8月26日 ② 混凝剂的用量：采用镁剂脱硅时，通常都加混凝剂。适当的混凝剂可以改善氧化镁沉渣的性质，提高除硅效果。一般所用的混凝剂为铁盐，其添加量为02～035 mmol/L。③ 水温：提高水温可以加速除硅过程，并使除硅效果提高。40 ℃时出水中残留硅 2015年10月8日 将纯酸按液 固比为 加热至50 、在反应釜中搅拌反应 定条件，进行王水、HNO3、HCl 、HF、HF+HCl 的酸洗对 比实验。 反应结束后用去离子水将硅料清洗至中性， 抽滤并烘干，取样进行金属杂质含量检测，结果如表 所示。 可以看到：HCl对于 Ca、Al 杂质的去除效果最 酸洗法去除工业硅中金属杂质 豆丁网2018年8月2日 公开 (公告)日20181106 IPC分类号C02F9/04; C02F101/10 摘要 本发明公开了一种高盐废水除硬除硅及浓缩处理方法及系统，涉及废水处理技术领域，该高盐废水处理方法包括：对高盐废水进行加药软化除硅处理;对所述加药软化除硅处理后的废水进行固液分 高盐废水除硬除硅及浓缩处理方法及系统 Dowater2022年12月1日 正如我们所提到的，五种处理技术可以去除水中的二氧化硅，但每一种都有其缺点。在下图中，我们介绍了一种处理系统，它几乎可以通过使用水软化剂、电絮凝和超滤设备从水中去除二氧化硅。图81：除硅工艺流程介绍 09 part 去除硅的最佳方法是什么？YASA ET 亚沙环境丨从废水中去除二氧化硅的五种方法2018年9月20日 1)本发明所提出的煤气化废水同步除硅除硬方法，操作简单、设备投资和运行成本低、除硅 除硬效果良好。反应通过除硅药剂吸附含硅微粒破坏其在水中的平衡，随后再加入混凝药剂将上述微粒与硬度一同除去。反应过程中通过将产生的污泥分别 煤气化废水同步除硅除硬工艺方法 Dowater
硅片外延生长市场初研半导体
硅片外延生长市场初研 17:00 2020年初，全球第六大、中国较大的半导体硅外延片一体化制造商上海合晶递交了A股科创板招股书，硅外延片首次在资本市场引起关注。 虽然硅外延技术在半导体制造领域是最常见、普遍的材料表面加工工艺之一，通过该 2014年11月5日 现在给大家介绍两种除氟治理方法：湿法吸收和干法净化法。 （一）湿法吸收 1、吸收原理 绝大多数工业含氟气体的主要组分为氟化氢和四氟化硅。根据这两种气体易溶于水和某些溶液中的特性，通常采用水、氢氟酸和氟硅酸溶液或碳酸钠、氢氧化铵、氟化铵、氢氧化钙、氯化钠、硫酸钾等溶液 除氟有哪些方法，哪种比较好？ 知乎2020年12月21日 RENA前清洗工序的目的： ①去除硅片表面的机械损伤层（来自硅棒切割的物理损伤） ②清除表面油污（利用HF）和金属杂质（利用HCl） ③形成起伏不平的绒面，增加对太阳光的吸收，增加PN结面积，提高短路电流（Isc），最终提高电池光电转换效率 RENA前后清洗工艺 知乎2019年11月22日 5一种采用权利要求14任意一项所述的高效除硬除硅的污水处理系统的污水处理方法，其特征在于：包括如下步骤： 将污水通入管道混合器 (2)，与通过药剂投加管线 (22)投加的药剂混合，出水进入第二管道混合器 (3)，与通过第二药剂投加管线 高效除硬除硅污水处理方法 Dowater